机译:具有高K介电支柱的新型低电阻电流路径UMOS
State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China|c|;
Breakdown voltage (BV); UMOS; dielectric; high relative permittivity; specific on-resistance;
机译:氮掺入H基高k栅极介电材料对终止局部电流泄漏路径的作用
机译:高k电介质柱的高压互连屏蔽结构的新结构与分析模型
机译:具有交替的高k电介质和阶跃掺杂硅柱的SOI LDMOS的数值和分析研究
机译:高k电介质III-V MOSFET的锗钝化和介电漏电流的温度依赖性
机译:用于大电流阴极的高K电介质的激光制造。
机译:在硅晶片上合成的用于栅极电介质应用的新型高k碳氢化合物薄膜的原子力显微镜数据
机译:HFO2-AL2O3层压电介质优化高k / Inalas MOS电容器物理和泄漏电流特性研究