机译:基于全芯片实现的负电容场效应晶体管的最佳铁电参数 - 第二部分:电源电压的缩放
Georgia Inst Technol Sch Elect & Comp Engn Atlanta GA 30332 USA;
NVIDIA Santa Clara CA 95051 USA;
Univ S Florida Dept Elect Engn Tampa FL 33647 USA;
Georgia Inst Technol Sch Elect & Comp Engn Atlanta GA 30332 USA;
Georgia Inst Technol Sch Elect & Comp Engn Atlanta GA 30332 USA;
CMOS technology; high performance; low-power; negative capacitance transistor;
机译:负电容晶体管铁电参数的跨域优化 - 第一部分:恒定电源电压
机译:带有铁电HfO2薄膜,工作在低于0.2V电源电压下的陡坡负电容场效应晶体管的器件设计
机译:铁电厚度变化在未掺杂的HFO2基负电容场效应晶体管中的影响
机译:具有内部金属栅极的亚60 mV / dec铁电HZO MoS
机译:二维二硫化钼负电容场效应晶体管
机译:不同MOS电容的负电容场效应晶体管的比较研究。
机译:利用铁电HfO2薄膜在低于0.2V电源电压下工作的陡坡负电容场效应晶体管器件设计