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Analytical Field-Effect Method for Extraction of Subgap States in Thin-Film Transistors

机译:薄膜晶体管亚隙态提取的解析场效应方法

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摘要

We present an analytical field-effect method to extract the density of subgap states (subgap DOS) in amorphous semiconductor thin-film transistors (TFTs), using a closed-form relationship between surface potential and gate voltage. By accounting the interface states in the subthreshold characteristics, the subgap DOS is retrieved, leading to a reasonably accurate description of field-effect mobility and its gate voltage dependence. The method proposed here is very useful not only in extracting device performance but also in physically based compact TFT modeling for circuit simulation.
机译:我们提出一种分析场效应方法,使用表面电势和栅极电压之间的闭合形式关系,提取非晶半导体薄膜晶体管(TFT)中的亚能级态(subgap DOS)密度。通过考虑亚阈值特性中的接口状态,可以检索亚间隙DOS,从而可以合理准确地描述场效应迁移率及其栅极电压依赖性。这里提出的方法不仅在提取器件性能方面非常有用,而且在用于电路仿真的基于物理的紧凑型TFT建模中也非常有用。

著录项

  • 来源
    《Electron Device Letters, IEEE》 |2012年第7期|p.1006-1008|共3页
  • 作者

    Lee S.;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

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