机译:使用SU-8钝化层改善p型SnO薄膜晶体管的长期耐久性和偏置应力稳定性
School of Electrical and Electronics Engineering, Chung-Ang University, Seoul, Korea;
Humidity; Passivation; Performance evaluation; Stress; Thin film transistors; Tin compounds; P-type SnO TFTs; SU-8 passivation layer; bias stress stability; bias stress stability.; humidity; long-term durability;
机译:使用SU-8作为蚀刻停止和钝化层,从正面和负偏压胁迫下减小Ingazno薄膜晶体管的V_(Th)偏移
机译:P型SnO薄膜晶体管的环境相关偏压应力稳定性
机译:射频溅射制备的P型SnO薄膜晶体管的栅极偏置应力稳定性
机译:具有SiNx / HfO2钝化层的P型SnO薄膜晶体管的栅极偏置和电流应力稳定性的增强
机译:铟镓锌氧化物和锌锡氧化物薄膜晶体管的制造工艺评估和负偏压照明应力研究。
机译:钝化层对非晶InGaZnO薄膜晶体管正栅极偏置-应力稳定性的影响
机译:用TiO2界面层改善2D MOS2和WS2晶体管中的偏置应力稳定性