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机译:微波等离子体处理后溅射涂层Fe3Si薄膜的物理性质
Fe 3 Si filmfacing targets sputteringwettabilitymechanical propertyplasma treatment;
机译:面向靶溅射法制备的等离子处理Ga-Al掺杂ZnO薄膜的特性
机译:微波等离子体辅助阴极溅射沉积镍膜的结构和物理性能
机译:微波等离子体溅射制备含氧铜碳薄膜的物理力学和摩擦学性能
机译:面对靶的直流磁控溅射ZnO:Al膜的物理性质和残余应力
机译:沉积在微波等离子体盘反应器中的多晶金刚石薄膜的电学性质和物理特性。
机译:等离子体预处理和交联度对Nisin涂层PVA薄膜物理和抗菌性能的影响
机译:直流磁控面对靶溅射沉积Fe-Ti-N薄膜的结构和磁性