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机译:SiO2原子层沉积期间WO3(001)在WO3(001)上的第一原理研究SiO2的原子沉积
机译:SiO2原子层沉积期间WO3(001)在WO3(001)上的第一原理研究SiO2的原子沉积
机译:N_2等离子体辅助SiN_x原子层沉积过程中氨基硅烷前体的表面反应
机译:走向原子尺度图案化原子层沉积:具有混合功能的Si(001)表面上的Al2O3前体的反应
机译:原子层沉积TiO_2使用Ti(Och_3)_4和H_2O作为前体的初始表面反应机制
机译:通过原子层沉积制备银催化剂以及使用Operando表面增强拉曼光谱研究原子层沉积反应。
机译:富GaAs(001)-4×6和As富GaAs(001)-2×4表面上三甲基铝原子层沉积的原子-原子相互作用:同步辐射辐射光发射研究
机译:SiO2原子层沉积期间WO3(001)在WO3(001)上的第一原理研究SiO2的原子沉积
机译:原子层沉积法制备TiO2 / siO2催化剂的表面酸性和性质:紫外 - 可见漫反射,DRIFTs和可见拉曼光谱研究