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机译:用氢气直流磁控溅射制备不同薄膜催化剂
Direct current magnetron sputteringhydrogen generationsodium borohydridecatalyst;
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射技术沉积的低电阻率Ru_(1-x)Ti_xO_2薄膜
机译:反应性直流磁控溅射制备钼掺杂氧化铟薄膜
机译:薄膜通过直流磁控溅射沉积氢化硅,高速溅射
机译:用于微辐射热计应用的脉冲直流磁控溅射氧化钒薄膜的制备,表征和沉积后修饰
机译:用氢气直流磁控溅射制备不同薄膜催化剂
机译:通过高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜