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机译:通过逐层低温原子层沉积,原位原子层退火在SiC上进行AlN外延
机译:通过层逐层沉积的SiC对SiC的AlN外延,原位原子层退火
机译:通过逐层低温原子层沉积,原位原子层退火在SiC上进行AlN外延
机译:通过逐层原位原子层退火技术对AlN超薄膜进行低温原子层外延
机译:GaN上的ALN低温原子层沉积的工程隧穿接触
机译:用于II-VI材料生长的低温化学驱动原子层外延。
机译:逐层原位原子层退火法制备AlN超薄膜的低温原子层外延
机译:通过层,原位原子层退火的低温原子层对AlN超薄膜的外延
机译:由原子层逐层FORCE(柔性氧化物反应控制外延)产生的三层约瑟夫森结。总结报告