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【2h】

Low-temperature atomic layer epitaxy of AlN ultrathin films by layer-by-layer, in-situ atomic layer annealing

机译：通过层，原位原子层退火的低温原子层对AlN超薄膜的外延

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作者
Huan-Yu Shih; Wei-Hao Lee; Wei-Chung Kao; Yung-Chuan Chuang; Ray-Ming Lin; Hsin-Chih Lin; Makoto Shiojiri; Miin-Jang Chen;
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年度 2017
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