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【24h】

反射高速陽電子回折による結晶表面の研究:表面物性研究への応用

机译:反射高速正电子衍射研究晶体表面:在表面性质研究中的应用

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摘要

反射高速陽電子回折の特徴を生かした表面構造解析の手法を用いて,Si(111)-(7×7)およびSi(111)-(√3×√3)-Agからの回折強度の温度変化による表面デバイ温度の決定について述べるとともに,表面構造相転移と熱振動との関連について示す.さらにSi(111)-(√3×√3)-Ag表面構造の相転移について,秩序無秩序相転移と結論付けた秩序パラメータを用いた解析について述べる.また陽電子の表面プラズモン励起過程について電子との比較を行い,相互作用距離が大きく異なる理由を示す.
机译:利用高速反射正电子衍射特性的表面结构分析方法,从Si(111)-(7×7)和Si(111)-(√3×√3)-Ag衍射强度的温度变化描述了通过以上确定表面装置温度,并且示出了表面结构相变与热振动之间的关系。我们使用得出的有序参数来描述分析,还比较了阳离子与电子的表面等离子体激元激发过程,并说明了相互作用距离如此不同的原因。

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