机译:浸入式ArF光刻工艺中使用点过滤器的增强清洁及其对晶片缺陷的有效性
机译:增强了利用点过滤器的清洁及其对浸没式磁带光刻过程中晶片缺陷的有效性
机译:通过ArF浸没光刻工艺在300 mm SOI晶片上制造的基于Si-纳米线的多级延迟Mach-Zehnder干涉仪光学MUX / DeMUX
机译:使用具有CVD薄膜的颗粒阱晶片减少ArF浸没式光刻中的缺陷
机译:通过ArF浸没式光刻工艺在300毫米SOI晶圆上制造的低损耗,基于扁平带硅纳米线的五阶耦合谐振器光波导(CROW)
机译:预测由于光学和EUV光刻制造工艺的相互作用而导致的器件晶圆上的覆盖错误
机译:晶圆级合成过渡金属二硫属化物薄膜的Chelant增强溶液处理
机译:用于双图案化朝向32nm节点ARF浸入光刻的材料和工艺的开发
机译:甘油摄入对冷水浸泡过程中增强体内水分保持的有效性。