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机译:以高K介电层的导电机理为研究电活性缺陷的工具
机译:载流子分离分析,以阐明高k堆叠栅介质中的载流子传导和降解机理
机译:识别用于高级器件的非晶态高k电介质中电活性缺陷的空间定位和能量位置
机译:双(4-乙酰基苯胺)四氯化铜(II)化合物的非重叠小极化子隧穿模型的介电性能和交流电传导机理的研究
机译:薄高k介电层中缺陷,泄漏电流和传导机制的相关性
机译:通过原子层沉积进行金属栅/高k电介质堆叠工程:材料问题和电性能。
机译:Li0.9□0.1NiV0.5P0.5O4的电介电性能及交流导电机理的研究
机译:考虑高k电介质堆中的传导机制作为研究电活性缺陷的工具