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机译:考虑高k电介质堆中的传导机制作为研究电活性缺陷的工具
Albena Paskaleva; Dencho Spassov; Danijel Dankovic;
机译:以高K介电层的导电机理为研究电活性缺陷的工具
机译:载流子分离分析,以阐明高k堆叠栅介质中的载流子传导和降解机理
机译:识别用于高级器件的非晶态高k电介质中电活性缺陷的空间定位和能量位置
机译:薄高k介电层中缺陷,泄漏电流和传导机制的相关性
机译:通过原子层沉积进行金属栅/高k电介质堆叠工程:材料问题和电性能。
机译:Li0.9□0.1NiV0.5P0.5O4的电介电性能及交流导电机理的研究
机译:高介质隧道电流分析模型及高k门堆叠结构研究
机译:栅极堆叠形成过程中高K栅极介电层中的钝化点缺陷
机译:栅极堆积形成过程中高K栅极介电层的钝化点缺陷
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