首页> 外文期刊>Applied Physics Frontier >The Optimization of the InGaAs/InP Material for Photodetectors
【24h】

The Optimization of the InGaAs/InP Material for Photodetectors

机译:用于光电探测器的InGaAs / InP材料的优化

获取原文
           

摘要

Room-temperature photoluminescence was used to study the influence of growth temperature on InP/InGaAs quantum well grown on InP substrate by method of metal-organic chemical vapor deposition(MOCVD).The growth temperature of InGaAs andInP was studied and
机译:采用金属有机化学气相沉积法(MOCVD)研究了室温光致发光对InP衬底上InP / InGaAs量子阱生长温度的影响。研究了InGaAs和InP的生长温度,

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号