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Alternative Zu Sic

机译:替代SiC

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摘要

Hersteller von Leistungshalbleitern wollenrnschon länger vom Silizium wegkommenrnund suchen vor allem nach Materialien mitrngroßer Bandlücke. Ein neuer Gallium-rnnitrid-Prozess arbeitet mit normalen Silizium-rnwafern und bietet gegenüber Siliziumkarbidrneine Reihe von Vorteilen.rnAuf Galliumnitrid (GaN) basiert eine neue Prozessplatt-form für Leistungshalbleiter namens »GaNpowIR«, an der International Rectifier (IR) fünf Jahre lang geforscht und entwickelt hat. Ende 2009 sollen die ersten MOSFETs und Dioden für 100 V und 200 V Sperrspannung in Produktionsstückzahlen zur Verfügung stehen, im weiteren Verlauf folgen Bausteine für 600 V. Zurzeit werden Prototypen zusammen mit ausgewählten Kunden getestet. IR plant, zu allen bestehenden Produktgruppen zwischen 20 V und 1200 V Sperrspannung Alternativbauteile aufrnGaN-Basis herzustellen.
机译:功率半导体制造商希望更长的时间远离硅,并主要寻找带隙较大的材料。与氮化硅相比,一种新的氮化镓工艺可与普通的硅晶片一起使用,并具有许多优势Rn氮化镓(GaN)是功率半导体的新工艺平台,称为“ GaNpowIR”,国际整流器(IR)已在该平台上进行了五年研究并且发达。首批用于100 V和200 V反向电压的MOSFET和二极管将于2009年底批量生产,随后将用于600 V的模块,目前正在与部分客户一起测试原型。 IR计划基于GaNN为20 V至1200 V反向电压之间的所有现有产品组生产替代组件。

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    《Design & Elektronik》 |2008年第12期|8|共1页
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