机译:Ar,Ar / H2和Ar / N2混合物中低压rf等离子体的颗粒温度
IEAP, University of Kiel, Leibnizstr. 19, 24108 Kiel, Germany;
INP Greifswald e.V., Felix-Hausdorff-Str. 2, 17489 Greifswald, Germany;
IEAP, University of Kiel, Leibnizstr. 19, 24108 Kiel, Germany;
Plasma-surface interaction; plasma diagnostics; dusty plasmas; particle temperature;
机译:Ar,Ar / H-2和Ar / N-2混合物中低压rf等离子体的颗粒温度
机译:在Ar / O-2,Ar / Co2,Ar / H2O气体混合物中氧化β-SiC在高温下的氧化:无源状态下二氧化硅生长的动力学研究
机译:在Ar / O-2,Ar / Co2,Ar / H2O气体混合物中氧化β-SiC在高温下:主动/被动过渡
机译:使用Cl2 / N2和Cl2 / N2 / Ar混合物的InP基半导体的室温感应耦合等离子体刻蚀
机译:重型14类羰基化合物M [Ar(Me6)] 2与小分子通过协同效应介导的反应化学(M =锗,锡; Ar(Me6)= C6H3-2,6-(C6H2-2,4 ,6-(CH3)3)2)。
机译:重要结构理论在二元液体混合物:AR + N2AR + O2和O2 + N2中的应用
机译:CH4的点火:O2:Ar和N-C4H10:O2:Ar(N2)混合物,初始温度在650-950 k之间,表面脉冲放电