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机译:总气体流速对VHF-PECVD制备的微晶硅膜的影响
Institute of Photo-Electronic Thin Film Devices and Technology, Nankai University, Tianjin 300071, China;
very high frequency plasma enhanced chemical vapour deposition; intrinsic microcrystalline silicon; gas flow rate;
机译:总气体流速对VHF-PECVD制备的微晶硅膜的影响
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