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机译:射频磁控溅射在SiO_2衬底上ZnO薄膜的光学性质
Institute of Optoelectronic Technology, Key Laboratory for Information Storage, Displays and Materials, Beijing Jiaotong University, Beijing 100044;
thin films; deposition and fabrication; thin films; optical properties;
机译:退火对射频磁控溅射在GaAs(001)衬底上沉积的ZnO薄膜样品的电和光学性能的影响
机译:射频磁控溅射沉积在Pt / Ti / SiO_2 / Si衬底上的CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜的沉积和介电性能
机译:基板温度对射频磁控溅射沉积的GZO / ZnO薄膜的结构,电学和光学性质的影响
机译:溅射功率对通过射频磁控溅射沉积的ZnO / SiO_2膜的结构和光学性质的作用
机译:射频磁控溅射砷化镓薄膜的光学表征。
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:使用射频磁控溅射在$ Pt / Ti / SiO_2 / Si $衬底上沉积的$ CaCu_3Ti_4O_ {12} $薄膜的沉积和介电特性