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【24h】

New Additive for Copper Plating Fits TSV Filling

机译:新型铜电镀添加剂适合TSV填充

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摘要

ADEKA CORPORATION has developed a new additive for through silicone via (TSV) copper plating. TSV electrodes can provide vertical electrical connections that pass internally through semiconductor chips. Semiconductor devices are reaching their physical limit with respect to improving performance by miniaturizing line widths. Semiconductor manufacturers are now attempting to achieve smaller size and higher performance of devices by stacking multiple chips into the 3D structure.
机译:ADEKA公司已开发出一种用于硅通孔(TSV)镀铜的新型添加剂。 TSV电极可以提供内部穿过半导体芯片的垂直电连接。在通过最小化线宽来提高性能方面,半导体器件已达到其物理极限。半导体制造商现在正试图通过将多个芯片堆叠到3D结构中来实现更小尺寸和更高性能的设备。

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    《Asia electronics industry 》 |2013年第12期| 35-35| 共1页
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