机译:用杂交DCMS / HIPIMS或反应性DCMS工艺进行磁控溅射杂交薄膜杂交TIC薄膜的对比研究
Natl Inst Res & Dev Optoelect 409 Atomistilor St Magurele 077125 Romania;
Natl Inst Res & Dev Optoelect 409 Atomistilor St Magurele 077125 Romania;
Natl Inst Res & Dev Optoelect 409 Atomistilor St Magurele 077125 Romania;
Natl Inst Mat Phys 105 Bis Atomistilor St Magurele 077125 Romania;
Natl Inst Res & Dev Optoelect 409 Atomistilor St Magurele 077125 Romania;
Titanium carbide; Epitaxial growth; Hybrid coating; DCMS/HiPIMS; Electrical resistivity;
机译:半导体P型铜氧化铁氧化物薄膜通过杂交反应性 - HIPIMS ECWR和反应性 - HIPIMS磁控管等离子体系统沉积
机译:通过HIPIMS / DC混合磁控溅射工艺沉积的用于IT-SOFC应用的La9.33 sub> Si6 sub> O26 sub>电解质薄膜
机译:通过HIPIMS / DC混合磁控溅射工艺沉积的IT_SOFC应用La_(9.33)Si6O_(26)电解质薄膜
机译:导电ZnO的结构,电气和磁力研究:DC反应磁控沉积沉积的CO薄膜
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:反应磁控溅射沉积TiO2薄膜的光催化性能的途径
机译:半导体P型铜氧化铁氧化膜沉积的杂交反应性 - Hipims + ECWR和反应性 - HIPIMS磁控血管浆系统