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【2h】

Semiconducting p-Type Copper Iron Oxide Thin Films Deposited by Hybrid Reactive-HiPIMS + ECWR and Reactive-HiPIMS Magnetron Plasma System

机译：半导体P型铜氧化铁氧化膜沉积的杂交反应性 - Hipims + ECWR和反应性 - HIPIMS磁控血管浆系统

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Zdenek Hubička; Martin Zlámal; Jiri Olejníček; Drahoslav Tvarog; Martin Čada; Josef Krýsa;
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年度 2020
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