机译:与GaN(0001)直接接触到PT薄膜上的H_2O在PT薄膜上的解离吸附:电子通信在催化剂和半导体支撑件之间的影响
Univ Notre Dame Radiat Lab Notre Dame IN 46556 USA|Univ Notre Dame Dept Chem & Biochem Notre Dame IN 46556 USA|Lawrence Berkeley Natl Lab Chem Sci Div 1 Cyclotron Rd Berkeley CA 94820 USA;
Univ Notre Dame Radiat Lab Notre Dame IN 46556 USA|Univ Notre Dame Dept Phys Notre Dame IN 46556 USA;
机译:在外延应变的H_2O上的解离吸附的应变依赖性,外平面异化,BATIO_3(001)薄膜
机译:Sc和ScN薄膜在GaN(0001)上吸附的初始阶段:第一性原理计算
机译:Gan Mocvd期间Gan(0001)表面上前体物质的吸附,扩散和解离的计算研究
机译:双层(Fe,Ni)金属a-Al_2O_3(0001)催化剂对CH_4吸附和解离的电子结构
机译:通过发光光谱和X射线衍射测定在6H-SiC(0001)衬底上生长的GaN和Al(x)Ga(1-x)N薄膜的应变和组成。
机译:有机金属气相外延过程中GaN(0001)和(000-1)的CH4吸附概率及其与膜中碳污染的关系
机译:Al2O3(0001)衬底的解离以及硅和氧在气源分子束外延生长的N型Gan薄膜中的作用
机译:用于光学和光电器件应用的介观结构薄膜中的半导体纳米晶体;最终的评论。 2005年3月1日至2006年11月30日