机译:4H-SiC表面氧相关缺陷的第一性原理研究:表面非晶结构的影响
Univ Tokyo, Dept Appl Phys, Tokyo 1138656, Japan;
Univ Tokyo, Dept Appl Phys, Tokyo 1138656, Japan;
Saitama Univ, Grad Sch Sci & Engn, Saitama 3388570, Japan;
Natl Inst Quantum & Radiol Sci & Technol QST, Takasaki, Gunma 3701292, Japan;
SiC surface; Amorphous; Single-photon sources;
机译:第一性原理研究4H-SiC / SiO2界面上的层间状态以及氧相关缺陷的影响
机译:表面结构,氧气缺陷和水合在低指数Znga2O4表面吸附中的表面结构,氧缺陷和水合的作用:首先原则研究
机译:用第一性原理和经典分子动力学模拟揭示4H-SiC表面结构和氧化机理
机译:第一性原理研究Ge在4H-SiC(0001)表面的吸附特性
机译:过渡金属和过渡金属氧化物表面上化学光气的第一原理研究:结构,动力学和反应
机译:晶体和无定形二氧化硅颗粒的表面和整体红外模式:表面结构与可吸入二氧化硅的细胞毒性之间关系的研究。
机译:第一性原理研究4H-SiC / SiO2界面上的层间状态以及氧相关缺陷的影响