机译:CeO_2和In掺杂的CeO_2中间层对脉冲激光沉积YGBCO /中间层/ YGBCO三层膜性能的影响比较
Shanghai Jiao Tong Univ, Key Lab Artificial Struct & Quantum Control, Minist Educ, Sch Phys & Astron, Shanghai, Peoples R China;
YGBCO; CeO2; Self-field I-c value; In; Tri-layer; Thickness effect;
机译:增强脉冲激光沉积沉积的YGBCO / GD-CEO2 / YGBCO三层膜的超导性能
机译:目标密度对脉冲激光沉积YGBCO薄膜生长和性能的影响
机译:沉积退火对脉冲激光沉积La0.5GD1.5SiO5掺杂DY3 +薄膜的结构,形态和发光性能的影响
机译:TiN中间层对脉冲激光沉积法制备羟基磷灰石薄膜的微观结构和力学性能的影响
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:脉冲激光沉积沉积的Nb掺杂SrsnO3外延膜的电气和光学性能
机译:CaRuO 3中间层对脉冲激光沉积制备Ba(Zr,Ti)O 3薄膜介电性能的影响