机译:台阶和平台结构基底上金红石型TiO2薄膜的同质外延生长
Tokyo Inst Technol, Mat & Struct Lab, Midori Ku, Yokohama, Kanagawa 2268503, Japan;
rutile; TiO2 (101); step and terrace; ultrasmooth surface; homo-epitaxial growth; hetero-epitaxial growth; alpha-Al2O3 (10(1)over-bar2); SCANNING-TUNNELING-MICROSCOPY; THIN-FILMS; SURFACE; FERROMAGNETISM;
机译:金红石型TiO2(101)型(101)基板上的NBON(100)薄膜的两步外延生长和RF反应溅射的残余载体浓度的降低
机译:用于电阻随机存取存储器(RERAM)设备应用的PT / TiO2 / SiO2 / Si(SSTOP)基板上的无定形,锐钛矿和金红石相TiO2薄膜的生长
机译:衬底平台和台阶形貌对外延SrRuO3薄膜生长模式的关键影响
机译:锡缓冲硅上的共掺杂金红石TiO2薄膜的外延生长
机译:LEED和STM的金红石(1x1)和(1x2)TiO2(110)
机译:表面阶跃阶跃调谐在邻近LaAlO3衬底上的高外延CaCu3Ti4O12薄膜的微观结构和介电性能
机译:高度外延CaCu3Ti4O12薄膜在邻近拉马洛3衬底上高度外延CaCu3Ti4O12薄膜的表面步骤露天度和介电性能