机译:在超导射频(SRF)腔生产条件下化学抛光铌的表面研究
Coll William & Mary, Thomas Jefferson Natl Accelerator Facil, Williamsburg, VA 23187 USA;
Boston Univ, Dept Phys, Boston, MA 02215 USA;
niobium RF cavities; surface analysis; chemical etching; accelerator cavities; RAY PHOTOELECTRON-SPECTROSCOPY; ANGLE-RESOLVED XPS; MEAN FREE PATHS; THICKNESS DETERMINATION; UNIFORM OVERLAYERS; NB SURFACES; OXIDES; OXIDATION; GROWTH; INTERFACES;
机译:一种表征铌超导射频(SRF)加速器腔表面形貌的新颖方法
机译:用于超导射频腔应用的铜表面铌薄膜沉积研究
机译:表面处理工艺对超导射频加速器腔中铌的影响的形貌功率谱密度研究
机译:用于超导射频腔生产的铌样品的表面研究
机译:铌的表面抛光,用于超导射频(SRF)腔应用。
机译:粒子加速器超导射频腔制造过程中铌吸收氢的倾向性评估
机译:用于超导射频腔应用的铜表面的铌薄膜沉积研究