机译:Hg1-xCdxTe中激光退火法形成p-n结
Univ Rzeszow, Inst Phys, PL-35959 Rzeszow, Poland;
Pedag Univ, Sect Expt Phys, UA-82100 Drogobych, Ukraine;
Univ Rzeszow, Inst Biotechnol, PL-35959 Rzeszow, Poland;
p-n junctions; laser annealing; HgCdTe; ION-IMPLANTED HGCDTE; DIFFUSION; SURFACE; CDTE; HG;
机译:激光退火聚焦离子束制备的纳米级P-n结的定量掺杂分析
机译:退火温度对通过化学沉淀方法对P-N结二极管施加制备的钼纳米粒子性能的影响
机译:使用软X射线退火方法消除P-N结二极管中的瞬态电子陷阱
机译:纳秒激光退火在ZnO纳米棒上制造p-n均质结的应用
机译:带有旋涂掺杂剂的微米和纳米柱上浅p-n结的形成,用于太阳能电池。
机译:校正:从聚焦电子束诱导沉积获得的Cu–C材料的生长后退火后形成纯Cu纳米晶体:不同方法的比较
机译:CW激光退火硅中P-N结的电气和结构性能
机译:具有来自非圆形光学腔的定向发射的p-N结二极管紫外激光器用于生物传感