机译:反应性脉冲激光烧蚀沉积氧化锌薄膜
CNR, Ist Metodol Inorgan & Plasmi, Sez Potenza, I-85050 Tito, PZ, Italy;
Acad Sci Czech Republ, Inst Phys, CZ-18221 Prague 8, Czech Republic;
Natl Inst Lasers Plasma & Radiat Phys, Bucharest 77125, Romania;
reactive pulsed laser deposition; zinc oxide; thin films; CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; ZNO FILMS; TRANSPARENT CONDUCTORS; EPITAXIAL-GROWTH; PLASMA; SAPPHIRE; SENSORS;
机译:反应性脉冲激光烧蚀沉积具有大热电动势系数的铬氧化物薄膜
机译:反应性脉冲激光沉积氧化锌薄膜
机译:脉冲烧蚀氧化锌的激光烧蚀和活性氧等离子体的建模
机译:用于固态紧凑型传感器的反应性脉冲激光烧蚀和稀铟锡氧化膜的沉积
机译:通过脉冲激光沉积和溶胶-凝胶法控制氧化锌薄膜的电阻率和光学性质。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:铟锡氧化物(ITO),二氧化钛(TiO2)薄膜和金(AU)纳米粒子的反应性脉冲激光烧蚀沉积(RPLAD),用于染料敏化太阳能电池(DSSC)应用
机译:脉冲激光沉积薄膜生长激光烧蚀动力学