机译:施加负偏置电压对FCVA沉积的Ti掺杂a-C:H薄膜结构的影响
State Key Laboratory of Solid Lubrication, Lanzhou Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Science, Lanzhou 730000, PR China;
hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) films; applied bias voltage; filtered cathodic vacuum arc (FCVA);
机译:施加负偏压对FCVA沉积Ti掺杂a-C:H薄膜结构的影响
机译:施加负偏压对FCVA沉积Ti掺杂a-C:H薄膜结构的影响
机译:施加衬底负偏压对含Al a-C:H薄膜的结构和性能的影响
机译:负偏压对FCVA沉积合成的DLC膜结构和力学性能的影响
机译:在施加的偏压和栅极电压下,悬浮碳纳米管场效应晶体管中的拉曼光谱和电传输。
机译:摩擦诱导的控制a-C:H和a-C:H:Si膜中超润滑性的界面纳米结构的演变
机译:应用偏压对Ti的组成,结构和性能的影响:Si编码的A-C:H磁控溅射膜的H.