机译:金属蒸气真空电弧离子注入对离子束沉积Cr / Cu膜附着力和硬度的影响
Laboratory of Advanced Materials, Department of Materials Science and Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, China;
MEVVA; IBAD; Cr/Cu film; nanohardness; adhesion;
机译:脉冲电压和沉积时间对混合阴极电弧-辉光放电等离子体辅助化学气相沉积沉积在可弯曲不锈钢箔上梯度金属/碳膜粘附强度的影响。
机译:等离子体增强化学气相沉积SiO_2上用于铜金属化的原子层沉积WN_xC_y膜的完整性和阻挡性能的评估
机译:离子束预处理对FR-4基体上溅射沉积Cu膜界面附着力的影响
机译:Cu添加对磁控溅射沉积的Ti-Al-N纳米复合膜的微观结构和粘合性能的影响
机译:氧化物表面和金属氧化物界面的反应性:水蒸气压力对超薄氧化铝膜的影响,以及铂在超薄氧化膜上的生长模式及其对粘附力的影响的研究。
机译:气相沉积金属卤化物中晶体尺寸的控制钙钛矿膜
机译:高达TFA-MOD方法沉积的YBA2Cu3O7-Y膜中水蒸气分压对微观结构演化的影响