一种用于红外金属膜的离子束沉积设备及薄膜沉积方法

摘要

本发明公开了一种用于红外金属膜的离子束沉积设备及薄膜沉积方法，该设备包括装卸片腔室和溅射腔室，设在二者之间设有第一高真空隔离阀，装卸片腔室设有真空密封门，真空密封门中贯穿有推进杆，推进杆于真空密封门内侧的一端设有工件台，真空密封门外侧设有用于推动推进杆的推进机构，装卸片腔室连接有第一抽真空装置。薄膜沉积方法采用上述设备进行薄膜沉积。本发明中，设置的装卸片腔室，能够减少溅射腔室的开腔和抽真空次数，缩短抽真空时间，提高产能，能使溅射腔室内始终保持真空环境，减少烧靶次数，提高靶材的利用率。本发明离子束沉积设备具有产能高、靶材利用率高等优点，能够广泛用于沉积红外金属膜，有着很高的使用价值和应用前景。