机译:NiTi形状记忆合金低温等离子体氮化制备氮化表面层的结构与性能
Childrens Mem Hlth Inst, Dept Pathol, PL-04730 Warsaw, Poland;
Warsaw Univ Technol, Fac Mat Sci & Engn, PL-02507 Warsaw, Poland;
Childrens Mem Hlth Inst, Dept Pathol, PL-04730 Warsaw, Poland;
Silesia Univ, Fac Comp Sci & Mat Sci, PL-41500 Chorzow, Poland;
Warsaw Univ Technol, Fac Mat Sci & Engn, PL-02507 Warsaw, Poland;
Warsaw Univ Technol, Fac Mat Sci & Engn, PL-02507 Warsaw, Poland;
Warsaw Univ Technol, Fac Mat Sci & Engn, PL-02507 Warsaw, Poland;
Warsaw Univ Technol, Fac Mat Sci & Engn, PL-02507 Warsaw, Poland;
Nitinol; Glow discharge nitriding; Corrosion; Biocompatibility;
机译:表面形貌对低温等离子体处理氮化的NiTi形状记忆合金耐蚀性的影响
机译:短时间高温等离子体氮化在AISI 316L奥氏体不锈钢上氮化层的表面性能
机译:NiTi形状记忆合金上形成的低温氮化/氧化层的结构
机译:NiTi形状记忆合金上形成的低温氮化/氧化层的结构
机译:Nitisn低温形状记忆合金的研究与NTIHF高温形状记忆合金的加工
机译:钛合金激光表面熔化和激光表面氮化处理产生的表面层的光学性能研究
机译:在NiTi形状记忆合金上形成的低温氮化/氧化层的结构
机译:在包括非氮化镓柱的基板上制造氮化镓半导体层的方法,以及由此制造的氮化镓半导体结构。