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机译:靶腐蚀等级对磁控溅射AZO涂层光电性能的影响
IK4 Tekniker, Res Ctr, C Inanki Goenaga 5, Eibar 20600, Guipuzkoa, Spain;
IK4 Tekniker, Res Ctr, C Inanki Goenaga 5, Eibar 20600, Guipuzkoa, Spain;
IK4 Tekniker, Res Ctr, C Inanki Goenaga 5, Eibar 20600, Guipuzkoa, Spain;
IK4 Tekniker, Res Ctr, C Inanki Goenaga 5, Eibar 20600, Guipuzkoa, Spain;
Univ Nova Lisboa, Fac Sci & Technol, Dept Mat Sci, CENIMAT i3N, P-1200 Lisbon, Portugal;
Univ Nova Lisboa, Fac Sci & Technol, Dept Mat Sci, CENIMAT i3N, P-1200 Lisbon, Portugal;
Univ Nova Lisboa, Fac Sci & Technol, Dept Mat Sci, CENIMAT i3N, P-1200 Lisbon, Portugal;
AZO; Ceramic target; Magnetron sputtering; Target erosion; Grade; Optoelectronics;
机译:射频磁控溅射制备AZO / Mo / AZO薄膜的结构和光电性能
机译:靶到基片的距离对射频磁控溅射生长的AZO薄膜性能的影响
机译:Zr和O对磁控溅射TiC _(0.5)+ ZrO _2和(Ti,Zr)C _(0.5)+ ZrO _2复合靶的磁控溅射沉积TiC(N)涂层结构和性能的影响
机译:溅射功率对多目标磁控凝固式制备的ZR-NB-N纳米复合涂层结构和力学性能的影响
机译:溅射靶腐蚀及其对长时间直流磁控溅射镀膜的影响
机译:N2分压对液靶反应磁控溅射外延沉积GaN纳米棒生长结构和光学性能的影响
机译:目标表面降解对R.F的性质的影响。磁控溅射磷酸钙涂料