机译:磁控溅射沉积的Eu对高温稳定TiO2-锐钛矿结构的影响及光致发光效率分析
Wroclaw Univ Sci & Technol, Fac Microsys Elect & Photon, Janiszewskiego 11-17, PL-50372 Wroclaw, Poland;
Thin film; TiO2; Eu; Nanocrystalline structure; Magnetron sputtering; Photoluminescence;
机译:沉积和退火脉冲磁控溅射二氧化钛涂层结构与性能的表征研究
机译:沉积和退火脉冲磁控溅射二氧化钛涂层结构与性能的表征研究
机译:快速热处理对直流反应磁控溅射沉积As2O薄膜的微观结构和光学性能的影响
机译:高功率脉冲磁控溅射蚀刻不平衡磁控溅射沉积(HIPIMS / UBM)工艺沉积的工业化生产耐腐蚀CrN / NbN涂层
机译:通过磁控溅射合成的二硼化钛/碳化钛和氧化钛/氧化铝多层涂层的结构,机械,摩擦学性能和高温稳定性。
机译:射频磁控溅射法生长的锗量子点与衬底温度相关的表面形貌和光致发光
机译:沉积和退火脉冲磁控溅射二氧化钛涂层结构与性能的表征研究