机译:HTS外延YBaCuO薄膜临界电流的限制机理和场依赖性。
Inst. for Metal Phys., Kiev, Ukraine;
yttrium compounds; barium compounds; high-temperature superconductors; superconducting thin films; critical current density (superconductivity); edge dislocations; sputtered coatings; domain boundaries; transmission electron microscopy; magnetic susc;
机译:具有位错低角畴边界的外延HTS YBa2Cu3O7-delta薄膜中临界电流密度的磁场依赖性
机译:外延HTSYBa2Cu3O7-δ薄膜的磁场性质和临界电流密度的角度依赖性
机译:HTSC YBa {sub} 2Cu {sub} 3O {sub}(7-δ)薄膜中外延薄膜中临界电流的角度依赖性特征
机译:高温超导铜酸盐外延膜中临界电流密度的厚度依赖性机理
机译:HTS YBCO薄膜中临界电流密度的厚度依赖性机理及其纳米工程消除方法。
机译:FeO包覆的MgB2薄膜在高磁场下的临界电流密度的提高
机译:HTS外延YBaCuO薄膜临界电流的限制机理和场依赖性。
机译:应用磁场中脉冲激光沉积YBa2Cu3O7-x + BasnO3薄膜中传输临界电流密度的增强和角度依赖性(后印刷)。