机译:立方氮化硼薄膜形成的化学计量条件
Department of Physics and Institute for Surface and Thin Film Analysis (IFOS), University of Kaiserslautern, 67653 Kaiserslautern, Germany;
机译:射频磁控溅射形成立方氮化硼膜的条件
机译:金刚石膜作为缓冲层对化学气相沉积形成立方氮化硼膜的影响
机译:等离子体压缩化学气相沉积制备立方晶氮化硼薄膜中残余压缩应力引起的六方氮化硼红外吸收频移
机译:立方氮化硼晶体晶粒沉积在Si衬底上的氮化硼薄膜的场发射特性
机译:制备多层立方氮化硼薄膜和类sp(3)氮化硼薄膜的各种制造方法的研究。
机译:金刚石硼氮化物:压力诱导的2D金刚石氮化物的形成和力学性能(ADV。SCI。2/2021)
机译:立方氮化物薄膜和工具应用的立方硼氮化物薄膜硬度特性
机译:环境条件对立方氮化硼薄膜在硅衬底上粘附性的影响