机译:金刚石膜作为缓冲层对化学气相沉积形成立方氮化硼膜的影响
Department of Materials Science and Engineering, National Dong Hwa University, Hualien, Taiwan, ROC;
cubic boron nitride; microwave plasma-assisted chemical vapor deposition (MPCVD); nanocrystalline diamond film; multilayer;
机译:通过氟辅助化学气相沉积在金刚石夹层上生长的厚且粘附的立方氮化硼薄膜
机译:等离子体压缩化学气相沉积制备立方晶氮化硼薄膜中残余压缩应力引起的六方氮化硼红外吸收频移
机译:等离子体压缩化学气相沉积制备立方晶氮化硼薄膜中残余压缩应力引起的六方氮化硼红外吸收频移
机译:等离子体增强化学气相沉积法原位S掺杂立方氮化硼薄膜
机译:具有衬底偏置的超声等离子体喷射化学气相沉积系统中的立方氮化硼膜沉积和过程诊断。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:通过Helicon波等离子体增强化学气相沉积的立方硼氮化物薄膜的制备
机译:离子辅助脉冲激光沉积法制备立方氮化硼薄膜的成核与生长