首页> 中国专利> 由陶瓷和低体积立方氮化硼形成的复合致密体及制造方法

由陶瓷和低体积立方氮化硼形成的复合致密体及制造方法

摘要

一种复合致密体,通过在高温/高压下烧结包括约5至约60体积%的范围内的cBN、氧化锆(或在约5至约20体积%的范围内)以及其它陶瓷材料的组合物而形成。在烧结之后,所述氧化锆以立方相和/或四方相存在。所述氧化锆在烧结之前可能被稳定化或未被稳定化。其它陶瓷材料可包括一种或多种Ti、Zr、Hf、Al、Si的氮化物、硼化物以及碳化物,或Al

著录项

  • 公开/公告号CN103764595B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 戴蒙得创新股份有限公司;

    申请/专利号CN201280030640.6

  • 申请日2012-06-14

  • 分类号

  • 代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人郭国清

  • 地址 美国俄亥俄州

  • 入库时间 2022-08-23 09:55:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-10

    授权

    授权

  • 2014-06-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B 35/5831 申请日:20120614

    实质审查的生效

  • 2014-04-30

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号