机译:脉冲激光烧蚀旋转的BaTiO_3和SrTiO_3靶材生长的Ba_xSr_(l-x)TiO_3薄膜的特性
Vienna University of Technology, Karlsplatz 13, 1040 Wien, Austria;
laser deposition; structure and morphology; thickness; crystalline orientation and texture; dielectric thin films;
机译:在SrRuO_3 / SrTiO_3(001)衬底上生长的CaTiO_3,SrTiO_3,BaTiO_3,Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜和(BaTiO_3)_5 /(SrTiO_3)_5超晶格的红外光谱
机译:高氧压力下脉冲激光沉积生长的外延BaTiO_3 / SrRuO_3 / SrTiO_3(001)薄膜的微观结构和铁电性能
机译:YSZ陶瓷靶的准分子激光烧蚀; Si(100)衬底上生长的YSZ薄膜的改进的脉冲激光沉积控制参数
机译:脉冲激光沉积的光学特性沉积Ba_(0.8)Sr_(0.2)TiO_3在熔融石英底物上生长的薄膜
机译:通过脉冲激光烧蚀生长的超导钇钡(2)铜(3)氧(7-x)薄膜的生长机理和电传输性质。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:脉冲激光烧蚀BaTiO3和SrTiO3旋转靶的生长BaxSr1-xTiO3薄膜的特性