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Mobility and saturation velocity in graphene on SiO2

机译:SiO2上石墨烯的迁移率和饱和速度

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摘要

We examine mobility and saturation velocity in graphene on SiO2 above room temperature (300–500 K) and at high fields (∼1 V/μm). Data are analyzed with practical models including gated carriers, thermal generation, “puddle” charge, and Joule heating. Both mobility and saturation velocity decrease with rising temperature above 300 K, and with rising carrier density above 2×1012 cm-2. Saturation velocity is >3×107 cm/s at low carrier density, and remains greater than in Si up to 1.2×1013 cm-2. Transport appears primarily limited by the SiO2 substrate but results suggest intrinsic graphene saturation velocity could be more than twice that observed here.
机译:我们研究了高于室温(300–500 K)和高场(〜1 V /μm)的SiO2上石墨烯中石墨烯的迁移率和饱和速度。使用实用模型分析数据,包括门控载流子,热量产生,“熔池”装料和焦耳热。迁移率和饱和速度都随温度升高至300 K以上以及载流子密度升高至2×1012 cm-2以上而降低。在低载流子密度下,饱和速度> 3×107 cm / s,直到1.2×1013 cm-2时,其饱和速度仍大于Si。传输似乎主要受到SiO2衬底的限制,但结果表明,固有的石墨烯饱和速度可能是此处观察到的两倍以上。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2010年第8期|P.082112-082112-3|共3页
  • 作者单位

    Dept. of Electrical and Computer Engineering, Micro and Nanotechnology Laboratory, University of Illinois, Urbana-Champaign, Illinois 61801, USA;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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