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Electrical and Fourier transform infrared properties of epitaxial SmNiO3 tensile strained thin film

机译:外延SmNiO3拉伸应变薄膜的电和傅里叶变换红外特性

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摘要

We have grown epitaxial SmNiO3 thin films under tensile strain on SrTiO3 (001) substrate by pulsed laser deposition. A metal-insulator transition is found at about 394 K similar to observations made in bulk samples. The x-ray reciprocal space map suggests that the film undergoes partial strain relaxation, stabilizing the structure SmNiO3 with lower oxygen vacancies. The corresponding mid-infrared transmittance decreases when passing through the metal-insulator transition.
机译:我们已经通过脉冲激光沉积在SrTiO3(001)衬底上在拉伸应变下生长了外延SmNiO3薄膜。发现金属-绝缘体的转变温度约为394 K,与在大块样品中观察到的类似。 X射线倒易位图表明该膜经历了部分应变松弛,从而稳定了具有较低氧空位的SmNiO3结构。当穿过金属-绝缘体过渡区时,相应的中红外透射率降低。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2012年第9期|p.091908.1-091908.3|共3页
  • 作者单位

    INRS-EMT, Université du Québec, 1650 Lionel-Boulet, C. P. 1020, Varennes, Québec J3X 1S2, Canada;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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