机译:P型界面电荷控制层,用于启用GaN / SiC分离吸收和倍增雪崩光电二极管
U.S. Army Research Laboratory, Sensors and Electron Devices Directorate, RDRL-SEE-M, 2800 Powder Mill Road, Adelphi, Maryland 20783, USA;
机译:P型界面电荷控制层,用于启用GaN / SiC分离吸收和倍增雪崩光电二极管
机译:III-氮化物/ SiC的分离吸收和倍增的雪崩光电二极管:控制极化引起的界面电荷的重要性
机译:III氮化物/ SiC的分离吸收和倍增的雪崩光电二极管:控制极化诱导的界面电荷的重要性
机译:界面极化电荷对GaN / SiC分离吸收和倍增雪崩光电二极管的影响
机译:单独的吸收,分级,电荷和倍增雪崩光电二极管
机译:高紫外线检测效率的4H-SiC分离吸收电荷和倍增雪崩光电二极管结构的优化策略
机译:高紫外检测效率4H-SIC分离吸收电荷和乘法雪崩光电二极管结构的优化策略