机译:掺硅氧化ha铁电薄膜的唤醒效应
School of Materials Science and Engineering, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China|c|;
机译:掺硅氧化ha铁电薄膜的唤醒效应
机译:通过远程等离子体原子层沉积制备的退火和唤醒循环对氧化锆氧化锆超薄膜的铁电性的影响
机译:铁电铪氧化锆膜中的相交换驱动唤醒和疲劳
机译:铁电唤醒对叠层硅掺杂氧化Ha(HSO)FeFET存储器单元可靠性的影响
机译:溅射沉积的二氧化f单层和二氧化ha-氧化铝纳米层压薄膜的结构,光学性能和热稳定性。
机译:利用透射菊池衍射的Si和Zr掺杂氧化Ha薄膜和集成FeFET的结构和电学比较
机译:硅掺杂氧化铪铁电薄膜极化反转的电场和温度标度