机译:通过将高注入的发生与效率下降的发生相关联来确定GaInN发光二极管效率下降的原因
Future Chips Constellation, Department of Electrical, Computer, and Systems Engineering, Department of Physics, Applied Physics and Astronomy, Rensselaer Polytechnic Institute, Troy, New York 12180, USA|c|;
机译:通过将高注入的发生与效率下降的发生相关联来确定GalnN发光二极管中效率下降的原因
机译:通过Al组成渐变的AlGaN / GaN超晶格电子阻挡层提高了基于GaInN的发光二极管的整体效率,并降低了效率下降
机译:通过Al组成渐变的AlGaN / GaN超晶格电子阻挡层提高了基于GaInN的发光二极管的整体效率,并降低了效率下降
机译:S6-G4:GaInN发光二极管的高注入和高效率下降
机译:使用遗传算法设计氮化镓铟/氮化镓发光二极管,降低了效率下垂,并且降低了注入电流的光谱不稳定性
机译:直接观察电注入下GaN基发光二极管中双轴应力对效率下降的影响
机译:效率下垂,正向电压,理想因子和波长偏移在极化匹配的GAINN / GAINN多量子阱发光二极管中的效率下垂,正向电压,理想因子和波长偏移
机译:用于高效空穴注入的GaN发光三极管(LET)和用于评估效率下垂的物理起源