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Intrinsic inhomogeneity in barrier height at monolayer graphene/SiC Schottky junction

机译:单层石墨烯/ SiC肖特基结的势垒高度本征不均匀

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摘要

Graphene interfaced with a semiconductor forms a Schottky junction with rectifying properties. The inherent spatial inhomogeneity due to the formation of ripples and ridges in graphene can lead to fluctuations in the Schottky barrier height (SBH). The non-ideal behavior of the temperature dependent barrier height and ideality factor greater than 4 can be attributed to these spatial inhomogeneities. Assuming a Gaussian distribution of the barrier, mean SBHs of 1.30 ± 0.18 eV and 1.16 ± 0.16 eV are found for graphene/SiC junctions on the C- and Si-face, respectively. These findings reveal intrinsic spatial inhomogeneities in the SBHs in graphene based Schottky junctions.
机译:与半导体连接的石墨烯形成具有整流特性的肖特基结。由于石墨烯中形成波纹和脊而导致的固有空间不均匀性可能导致肖特基势垒高度(SBH)发生波动。取决于温度的势垒高度和理想因子大于4的非理想行为可归因于这些空间不均匀性。假设势垒的高斯分布,对于C面和Si面的石墨烯/ SiC结,平均SBH分别为1.30±0.18eV和1.16±0.16eV。这些发现揭示了基于石墨烯的肖特基结中SBHs固有的空间不均匀性。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2014年第2期|1-5|共5页
  • 作者单位

    Department of Physics, University of Wisconsin, Milwaukee, Wisconsin 53211, USA;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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