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机译:通过等离子氧化和Al2O3原子层沉积过度生长来调节AlN / AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的阈值电压
Institute of Electrical Engineering SAS, Dúbravska cesta 9, 841 04 Bratislava, Slovakia|c|;
机译:通过等离子氧化和AI_2O_3原子层沉积过度生长来调节AIN / AIGaN / GaN高电子迁移率晶体管中的阈值电压
机译:在具有光增强化学和等离子体增强原子层沉积氧化物的倒梯形三栅极AlGaN / GaN MOS高电子迁移率晶体管中,由栅极面积和栅极凹槽控制的阈值电压
机译:结合等离子体增强原子层沉积栅极电介质和原位SiN覆盖层,可降低200mm Si衬底上AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的阈值电压漂移和动态导通电阻色散
机译:原子层沉积Al2O3钝化增强GaN高电子迁移率晶体管的性能
机译:在AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管上进行等离子增强化学气相沉积的氮化硅钝化的热稳定性。
机译:AlGaN / GaN金属-氧化物-半导体高电子迁移率晶体管中作为栅极电介质的氧化镓膜的原子层沉积
机译:AlGaN / GaN金属-氧化物-半导体高电子迁移率晶体管中作为栅极电介质的氧化镓膜的原子层沉积