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Ferroelectric and antiferroelectric properties of AgNbO3 films fabricated on (001), (110), and (111)SrTiO3 substrates by pulsed laser deposition

机译:通过脉冲激光沉积在(001),(110)和(111)SrTiO3衬底上制备的AgNbO3薄膜的铁电和反铁电特性

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摘要

We fabricated 001, 110, and 111 oriented AgNbO3 u0002ANu0003 films on u0002001u0003SrTiO3 u0002STOu0003, u0002110u0003STO,nand u0002111u0003STO substrates by pulsed laser deposition, respectively. Scanning electron microscopenimages showed that the surface textures of the AN films on the u0002001u0003, u0002110u0003, and u0002111u0003STOnsubstrates took the form of a lattice-shaped pattern, a striped pattern, and trigonal pyramid-likenstructures, respectively. The AN film on the u0002001u0003STO had the largest relative dielectric constant ofn748 in all films. The P-E hysteresis showed that the AN film on u0002001u0003STO exhibitednantiferroelectricity and the other AN films deposited on u0002110u0003 and u0002111u0003STO showed a ferroelectricnproperty.
机译:我们分别通过脉冲激光沉积在u0002001u0003SrTiO3 u0002STOu0003,u0002110u0003STO和n0002111u0003STO基板上制作了001、110和111取向的AgNbO3 u0002ANu0003薄膜。扫描电子显微镜图像显示,u0002001u0003,u0002110u0003和u0002111u0003STOn基板上的AN膜的表面纹理分别采取格子状,条纹状和三角锥状结构的形式。在所有薄膜中,u0002001u0003STO上的AN薄膜具有最大的相对介电常数n748。 P-E磁滞表明,u0002001u0003STO上的AN膜表现出正电子电性,而沉积在u0002110u0003和u0002111u0003STO上的其他AN膜表现出铁电性。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letteres》 |2010年第4期|p.1-3|共3页
  • 作者单位

    Department of Materials Chemistry, Ryukoku University, Seta, Otsu 520-2194, Japan;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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