机译:掺N的HfAlO高k薄膜的界面特性
Korea Research Institute of Standards and Science, Nano Surface Group, Daejon 305-600, Korea;
机译:缺氧环境中脉冲激光沉积制备高k HfAlO_x薄膜的相分离和界面反应
机译:压缩应变Si_(1-x)Ge_x上HfO_2和HfAlO高k电介质的界面和电学特性比较
机译:低温电子束枪蒸发得到的基于高k HfAlO介电薄膜的金属绝缘体-半导体电容器的特性
机译:HFALO
机译:Si衬底上高k薄膜的结构。
机译:β-Ta/ CoFeB薄膜中自旋泵浦的全光学检测界面自旋透明度
机译:Si,Si1-XGex和GE基材上ALD HFO2薄膜高k特性与界面化学结构的相关性
机译:通过电子回旋共振等离子体氧化在(100)si衬底上生长的薄(<10nm)siO(sub 2)膜的结构和界面特性。