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机译:在具有天然氧化硅的Si衬底上生长的GaN纳米棒薄膜的电子场发射
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan;
机译:金属包覆硅基底上垂直取向均匀生长的镍纳米棒阵列的场发射特性
机译:在优化的二氧化硅图案r面蓝宝石衬底上生长的α面GaN膜的特性
机译:纳米图案蓝宝石衬底上生长的非极性a平面n型GaN薄膜的场发射特性
机译:在8英寸硅(111)基板上生长的凹陷 - 栅极AlGaN / GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管的稀释KOH钝化性能改进
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:将CNT薄膜主动真空钎焊到金属基板上以实现出色的电子场发射性能
机译:在(100)氧化镁衬底上生长的单硫化镧薄膜的场发射
机译:电子转移率与钛上天然和阳极氧化膜状态表面密度的相关性。