机译:在源极和漏极区域中使用自组装SiGe岛的晶体管中的应变分布
机译:硅锗源漏区晶体管的应变分布的有限元研究
机译:SiN接触蚀刻停止层和凹陷的SiGe源极和漏极在单轴应变晶体管中增加了应变
机译:SiGe源极/漏极引起的压缩应变对高k /金属栅极p沟道金属氧化物半导体晶体管中的低频噪声的影响
机译:硅锗源漏区的PMOSFET沟道中的平行应变分布研究
机译:用于自对准IGZO TFT的植入活性源/漏区
机译:用于22nm体PMOS晶体管的HK和MG集成了源极和漏极中的高应变SiGe
机译:通过SIN接触蚀刻静止层和凹陷的SiGE源和排水管在单轴紧张的晶体管中添加应变